日立Hitachi原子吸收光谱(AAS)ZA4000系列

日立Hitachi原子吸收光谱(AAS)ZA4000系列

品牌:日立/Hitachi
产地:日本
型号:ZA4000系列

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核心参数

仪器种类:石墨炉
单色元件:平面光栅
光学系统:双光束
检测器类:光电倍增管

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核心参数

仪器种类

石墨炉

单色元件

平面光栅

光学系统

双光束

检测器类

光电倍增管

扣背景技术

塞曼扣背景

分辨率

0.1nm(200nm 处)

灵敏度

Cu 特征质量约 1.5pg/0.004A(石墨炉法)

重复性(RSD)

石墨炉 RSD≤2%;火焰 RSD≤0.5%

检出限

Cu 石墨炉检出限<0.1μg/L

基线稳定性

±0.002Abs/30min

仪器介绍



日立Hitachi原子吸收光谱(AAS)ZA4000系列
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ZA4000系列原子吸收分光光度计,新增快速连续模式(支持火焰法),实现了更高的分析效率,可以在研究和品质管理等众多领域实现快速、高精度、高重现性。

特点

通过快速连续测定实现高精度、高效检测

最多可对12种元素进行连续测定,实现高效率检测

ZA4000系列搭载日立特别研发的偏振塞曼校正法和双检测器,提供稳定的高精度分析。

其中新成员快速序列式火焰机ZA4800使用全新研发的衍射光栅驱动,实现多元素快速连续测试,检测效率提升30%,打破了AAS测定速度不如ICP的技术难点。

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偏振塞曼背景校正

全波长范围的高精度背景校正,适用于任何元素,可以校正钠和钾等D2灯校正法无法校正的元素。

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开机即可测,基线更稳定。

双检测器实时背景校正

采用单独的检测器同时捕捉样品光束与参照光束的信号,可以降低基线噪音。

两种光束的检测时间是同步的,从而提升了校正精度。

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火焰法:自动启动、语音导航

偏振塞曼校正法可有效抑制漂移,在吸入空白溶液时吸光度会恢复到零左右。因此,系统会判断进样、测定开始与结束的时间,并自动执行测定。通过语音提示通知何时需要更换样品。即使是初次使用原子吸收分光光度计的客户也可以放心操作。

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石墨炉法

超痕量分析诊断系统

使用石墨炉法进行超痕量分析时,石墨管或样品进样系统受到污染会导致分析数据不准确。通过“石墨管污染确认”功能,初学者也能轻松进行分析,并及时发现仪器污染,节省预检时间。

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突沸自动检测功能

可提高检测结果的准确性。自动检测到暴沸,会在测定结果的数值后面标记“P”。据此,可以确认是否发生暴沸,并及时修正升温程序。

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可避免误放的样品盘

根据设定的自动进样器条件,样品盘的显示屏会根据样品以不同颜色显示标准溶液、基体改性剂等。通过样品盘的区分,可以降低放错样品的风险。

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样品表加载功能

软件能从Excel提取“样品名称”、“重量”和“溶剂体积”等信息,只需点击“加载样品表”即可。适合需要单独管理表格数据的用户。

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