美萨科技(苏州)有限公司
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XG-100B
SERICXG-100B是日本原装100W紧凑型氙灯光源,兼具小型化与节能优势。它精准复现太阳光谱,支持紫外/红外过滤,色温误差±10%。适用于色彩评估、科研及展示,是低成本高精度照明的理想选择。
XG-100A
SERICXG-100A是日本索莱克推出的100W紧凑型人工太阳灯,兼具小型化与节能优势。它复现正午太阳光谱,支持紫外/红外过滤,色温误差±10%。适用于色彩评估、科研及展示,是低成本高精度照明理想选择。
XG-500E
SERICXG-500E日本原装500W氙灯光源,精准复现正午太阳光谱。支持60%-100%连续调光及紫外/红外过滤,色温误差±10%。适用于汽车配色、美术展示及科研,确保室内色彩判断准确无误。
XG-500B
SERICXG-500B日本原装500W氙灯光源,精准复现正午太阳光谱。支持60%-100%连续调光及紫外/红外过滤,色温误差±10%。适用于汽车配色、美术展示及科研,确保室内色彩判断准确无误。
XG-500A
SERICXELIOSXG-500A人工太阳灯,精准复现正午太阳光谱,Ra达98,色温5500K。支持无频闪调光及紫外/红外过滤,适用于汽车配色、材料耐光测试及艺术品展示,确保色彩判断准确。
台式MS-B150/MS-B200
MIKASA台式旋涂机专为微纳加工设计,支持6-8英寸晶圆。采用伺服电机确保转速精准、膜厚均匀。具备多段编程、真空吸附及安全联锁功能,可选配自动滴胶,适用于光刻胶及薄膜制备。
AD-1200
MIKASAAD-1200旋转显影机,支持6英寸基板。集水坑与摆动喷淋双模式,耐腐蚀不锈钢腔体。具备全自动冲洗旋干功能,兼容多种药液,适用于微纳光刻及MEMS研发。
MA-10B
MIKASAMA-10B掩膜对准曝光机,支持4英寸及异形基板。配备双视野显微镜与2μm分辨率,提供软/硬接触模式。机身轻量化,兼容完整光刻工艺链,适用于微纳器件研发。
DA-60S
MIKASADA-60S是一款6英寸经济型匀胶机,采用无刷伺服电机与透明腔体设计。支持多段编程工艺,兼容圆形及方形基板,具备真空吸附与安全联锁,适用于光刻胶及功能薄膜制备。
MS-B300 密闭型
MIKASAMS-B300密闭型匀胶机,支持12英寸基板。采用气密腔体与伺服电机,膜厚均匀性达±0.7%,适配低沸点及EB胶。具备安全联锁与废气收集功能,适用于高精度光刻工艺。
MS-B200密闭型
MIKASAMS-B200密闭型匀胶机,支持8英寸基板。采用AC伺服电机与密闭腔体设计,有效抑制溶剂挥发,提升膜厚均匀性。适用于高精度光刻胶旋涂及特殊药液成膜。
ED-3000
MIKASAED-3000湿法蚀刻装置,支持12英寸基板。采用双摆动喷嘴与耐强酸腔体,药液覆盖均匀,蚀刻一致性高。适用于大尺寸微纳薄膜强酸刻蚀及光刻胶剥离。
ED-1200
MIKASAED-1200湿法蚀刻装置,支持8英寸基板。采用PTFE耐强酸腔体与旋转喷淋技术,集成冲洗功能,可编程控制。适用于微纳薄膜强酸刻蚀,保障图形均匀性。
PD-1000
MIKASAPD-1000旋转喷淋显影蚀刻机,支持8英寸基板。集旋转喷淋与浸润工艺于一体,可编程控制,适用于光刻胶显影及轻度湿法蚀刻,保障微纳加工均匀性。
AD-3000
MIKASAAD-3000集显影蚀刻于一体,支持12英寸基板。采用加压喷淋与双模式工艺,转速精准,配方可编程。适用于微纳研发,保障图形均匀性与一致性。
M-1S
MIKASAM-1S是紧凑型自动显影装置,支持4英寸基板。采用摆动喷雾显影,可编程32步工序,具备安全联锁,适用于小尺寸微纳器件研发与教学。
M-2LF
MIKASAM-2LF是高精度手动接触式光刻机,支持4英寸晶圆。具备1μm对准精度、三种曝光模式及光量闭环控制,适用于高校教学、半导体及光学器件研发。
MA-10
MIKASAMA-10是经济型手动接触式光刻机,支持4英寸及异形基板。分辨率达2μm,配备四维微调载台与防震底座,适用于高校教学、基础MEMS及微流控研发。
MA-60F
MIKASAMA-60F是科研级6英寸接触式光刻机,分辨率达1μm,支持软硬接触双模式。配备双视野显微镜与防震台,适用于MEMS、微流控及厚胶工艺,是高校微纳加工的理想设备。
MA-20
MIKASAMA-20是科研级4英寸接触式掩膜对准曝光机,分辨率达1μm,支持软硬接触模式。配备双视野显微镜与防震台,适用于MEMS、微流控及厚胶工艺,是高校微纳加工的理想设备。
空气驱动式 MS-B150/MS-B200
MIKASA台式精密旋涂机采用无刷伺服电机,低粉尘适洁净室。MS-B150/200分别适配6/8英寸晶圆,支持百步编程与真空吸附。广泛用于半导体、光学薄膜制备及微纳加工研发。
MS-B300
MIKASAMS-B300是专为大尺寸基板设计的旗舰级密闭旋涂机。具备极致成膜精度与低沸点溶剂适配能力,支持36组配方,广泛用于先进半导体研发及高端光学薄膜制备。
MS-B200
MIKASAMS-B200是专为8英寸晶圆设计的高性能旋涂机。具备无刷伺服电机与密闭腔体,成膜均匀性达±0.7%,适配低沸点溶剂,广泛用于半导体研发及大尺寸基板精密涂覆。
MS-B150
MIKASAMS-B150是专为6英寸晶圆设计的洁净室旋涂机。采用无刷伺服电机,成膜均匀性达±0.6%,支持自动滴胶选配,广泛用于半导体研发及微纳加工。
主营产品:
拉曼光谱仪
椭偏仪
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