HORIBA电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)Ultima Expert LT

HORIBA电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)Ultima Expert LT

品牌:HORIBA
产地:日本
型号:Ultima Expert LT

400-616-7676转3323

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核心参数

仪器种类:全谱直读
检出限:元素检出限可达 ppb 级别(多数元素<1ppb)
重复性:RSD≤0.5%(10 次连续测定)
稳定性:2h 漂移 RSD≤1.0%

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核心参数

仪器种类

全谱直读

检出限

元素检出限可达 ppb 级别(多数元素<1ppb)

重复性

RSD≤0.5%(10 次连续测定)

稳定性

2h 漂移 RSD≤1.0%

波长范围

160‑1000 nm

光学分辨率

≤0.007 nm(200nm 处)

仪器介绍

HORIBA电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)Ultima Expert LT

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高性价比的电感耦合等离子体发射光谱仪


HORIBA科学仪器部拥有超过35年的高性能ICP-OES开发及生产历史


Ultima Expert LT性能优良且价格适中,能够处理各种复杂样品。


Ultima Expert LT整合了Jobin Yvon高性能光学系统的优势,在分析各类样品和基体时均具有非常突出的表现。


Ultima Expert LT由强大的分析软件驱动,具有大量的分析功能,可以进行一些定制化的控制和分析。


高稳健性使Ultima Expert LT可以轻松地应用于:矿物、化学制造、高盐、润滑油(磨损金属)、石化、冶金制造及贵金属提炼等分析。


Ultima Expert LT能够满足您的各种应用需求!

高性能、高性价比ICP-OES

UltimaExpertLT性能优良且价格适中,能够处理各种复杂样品。

·采用了高刻线全息光栅、1m焦距的高质量光学设计、特色的全等离子观测,提供高分辨率、高灵敏度

·采用侧向观测、全等离子观测的方式,可提供低的检测下限

采用特色的护套气装置,对于高固含量样品具有好的稳定性,能够直接分析浓度30%样品

在120~800nm范围内提供恒定分辨率,加配远紫外装置,能够提高卤素元素的灵敏度

高光学分辨率降低光谱干扰,在120~320nm内,分辨率<5pm

s3-base viewer

S3-base viewer显示整个S3-base数据库,由采集到的ICP实际光谱所建立,内含50000条以上谱线,帮助识别未知样品的发射线

提供完整的S3-base数据库

显示分析物的波长及其相对强度和检测限

显示选定波长附近的潜在发射线列表,包括等离子体固有发射线,以及它们的相对强度和检测限。

图形显示被分析物的发射线和潜在的发射线,便于识别。

简要介绍

Ultima Expert LT 为堀场高性能垂直炬管 ICP‑OES,采用双光栅 + 垂直炬管光学系统,宽波长 160‑1000nm,200nm 处光学分辨率≤0.007nm,具备高光谱分辨能力,有效处理复杂基体光谱干扰。垂直炬管设计耐高盐、高基体样品,适合高盐分、稀土、地质、高纯材料样品分析;可同时测定常量、微量、痕量多元素。可配置自动进样器、氢化物发生装置、耐 HF 进样系统。配套 Horiba 专业分析软件,实现方法建立、谱图解析、干扰校正、数据积分、报告输出。广泛用于地质矿产、稀土材料、半导体高纯材料、环境、化工、金属冶金、食品医药领域。

核心硬件要点

光路:全光谱直读,双光栅,波长 160‑1000nm,高分辨率,抗光谱干扰强

炬管结构:垂直炬管,耐受高盐高基体,减少基体沉积,维护周期长

射频发生器:固态射频发生器,功率稳定

可扩展:自动进样器、氢化物发生、耐氢氟酸进样系统、有机进样模块

实际案例用途

案例 1:稀土、地质矿产样品

样品:稀土矿、矿石、地质消解液

用途:稀土元素、主次量元素同时测定;高分辨率分离稀土元素之间严重光谱干扰,矿产资源勘查、稀土材料质量把控。

案例 2:半导体高纯材料

样品:高纯酸、高纯试剂、半导体化学品、靶材消解液

用途:痕量杂质元素检测,ppb 级别杂质筛查,半导体原材料品质管控。

案例 3:环境监测

样品:地表水、污水、土壤、固废消解液

用途:金属元素多元素同时检测,满足国标环境样品分析,重金属污染筛查。

案例 4:冶金、金属材料

样品:合金、金属镀层、钢铁、有色金属消解液

用途:合金中主量、微量杂质元素检测,金属材料成分分析。

案例 5:化工、医药食品

样品:化工原料、原料药、食品、保健品消解液

用途:重金属杂质检测,药品元素杂质、食品重金属风险控制。


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