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400-616-7676转3323
核心参数
工作原理
其它
成像方式
色散型
使用状态
手持式
光谱范围
UV‑VIS(200‑850nm)或 VIS‑NIR(400‑1700nm)
光谱分辨率
microHR‑180:~0.13nm;iHR‑320:~0.06nm
成像分辨率
受 SEM 电镜空间分辨率约束,可达到亚微米级
视场(TFOV)
亚微米级
仪器介绍
堀场HORIBA高光谱仪/高光谱成像仪F-CLUE
紧凑型高光谱阴极荧光
F-CLUE采用光纤耦合方案,为阴极荧光成像和光谱分析提供了灵活的接口。
F-CLUE的光谱仪模块结构紧凑稳固,可在不同环境安装。比如配备多种探测器的扫描电镜和/或恶劣的工业条件或极端状况(洁净室、移动实验室…)
与整个CLUE系列一样,F-CLUE的紧凑型设计及可收缩收集臂可与任何品牌的扫描电镜耦合,且不会对扫描电镜性能造成限制。
准确的可视化微调收集镜位置,优化收集效率,确保了CL测试性能以及重现性。

灵活的解决方案,适合各类工作环境:
成像或高光谱CL
牢固的光纤接口
软件为LabSpec 6TM
全自动型光谱仪
可选RGB滤光
简要介绍
F‑CLUE 是堀场 CLUE 系列紧凑型阴极荧光高光谱检测附件,采用光纤耦合方案,可直接加装在各类扫描电镜 SEM 上,无需改动电镜主体结构。
可实现点光谱、线扫描、面扫描高光谱成像,得到样品阴极荧光发光强度、波长、发光分布,和 SEM 形貌图像做关联匹配。
收集探头可电动缩回,不干扰 SEM 原始观测;整机体积小巧,可用于洁净室、工业环境。
标配 LabSpec 6 软件,具备峰拟合、多元统计分析、粒子识别、图谱拼接等数据处理功能;可升级制冷探测器、偏振模块、时间分辨模块等配件。
光谱仪主机可选 microHR 180mm 焦距或 iHR‑320 320mm 焦距,最多支持 3 块光栅切换,覆盖紫外‑可见‑近红外波段。
实际案例用途
半导体材料:晶圆、LED 外延片、氮化镓、碳化硅缺陷检测,识别位错、晶格损伤,分析发光区域均匀性;第三代半导体器件失效分析。
矿物地质:矿物阴极荧光发光特征,区分矿物相、裂隙、包裹体,岩石薄片微区光谱成像。
材料科研:荧光粉体、陶瓷、纳米材料、量子点,研究缺陷态、载流子复合机制;
光伏电池:钙钛矿、硅电池微区发光分布,识别电池局部缺陷、漏电区域。