OTSUKA 大塚电子显微光谱薄膜厚度计OPTM 系列
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仪器介绍
OTSUKA 大塚电子显微光谱薄膜厚度计OPTM 系列
特色
胶片厚度测量所需的功能整合到头部
利用显微光谱进行高精度绝对反射率测量（多层薄膜厚度，光学常数）
高速测量速度在每秒1点以内
在显微镜下实现宽波长范围的光学系统（紫外~近红外）
使用区域传感器的安全机制
简易分析向导支持光学常数分析，即使是初学者也适用
配备可定制的宏观测量序列功能
能够分析复杂的光学常数（多点分析方法）
兼容300毫米级
支持多种自定义
一、子型号区分
| 型号 | 波长范围 | SiO₂换算膜厚范围 | 定位用途 |
|---|---|---|---|
| OPTM‑A1 | 230‑800nm | 1nm‑35μm | 紫外波段，半导体氧化膜、光刻胶、超薄膜 |
| OPTM‑A3 | 360‑1100nm | 7nm‑49μm | 通用可见光‑近红外，光学膜、ITO、涂层 |
| OPTM‑A2 | 900‑1600nm | 16nm‑92μm | 长波近红外，厚膜、有色薄膜测量 |
设备形态：
台式自动 XY 平台型：实验室研发、晶圆 mapping 面分布扫描；
嵌入头 Inline 型：可集成产线，在线自动化检测，只输出测量头，无整机台体
二、核心技术参数
| 项目 | 规格 |
|---|---|
| 测量方式 | 非接触、非破坏显微分光反射测量大塚电子(... |
| 最小测量光斑 | φ3μm（微区微小图案样品）大塚电子(... |
| 单点测量速度 | ≤1 秒（对焦 + 测量一次性完成）大塚電子 |
| 解析能力 | 最多支持50 层多层膜解析；输出膜厚、折射率 n、消光系数 k、绝对反射率光谱大塚电子(... |
| 专利功能 | 物理去除透明基板背面反射，玻璃 / 石英基板样品高精度测量（专利 5172203）大塚电子(... |
| 软件 | 向导解析模式，新手可完成多层膜建模解析；支持宏程序自动批量测量、Mapping 成像输出厚度分布云图大塚电子(... |
| 输出接口 | LAN、USB，可对接上位机系统 |
三、产品详细介绍
OPTM 系列是大塚电子旗舰级显微分光膜厚仪，也叫显微光谱薄膜厚度计；对标椭偏仪，兼顾微小光斑微区测量，解决透明基板背面反射干扰难题，适合半导体、显示、光学镀膜的研发与品质管控。
光源经过显微物镜聚焦到样品微小区域，采集样品绝对反射光谱，软件光谱拟合算法解析多层薄膜膜厚与光学常数 n/k；无需探针接触样品，完全无损。
两种形态可选：台式带自动 XY 位移平台，完成多点扫描、膜厚 Mapping；独立测量头版本，可嵌入客户产线设备，做在线制程监控。
四、实际落地应用案例
案例 1：半导体晶圆工艺检测
测试对象：Si/SiC/GaAs 晶圆、光刻胶、氧化层、介质多层膜
测试内容：微区图案位置膜厚，晶圆整片膜厚分布 Mapping
场景：半导体实验室、工艺研发，CMP、刻蚀、成膜工序离线抽检，替代部分椭偏仪测试。
案例 2：显示与光学器件
测试对象：ITO 导电膜、光学滤光片、AR 增透膜、LCD/OLED 功能膜
测试内容：纳米‑微米级多层光学涂层膜厚、折射率 n/k 评价；微小像素区域微区测量。
案例 3：功能薄膜与新材料研发
测试对象：PET 基材镀膜、光伏薄膜、硬质涂层、各类涂布薄膜
测试内容：透明基板上涂层膜厚，解决普通光谱膜厚仪受基板背面反射干扰的误差问题。
案例 4：产线 Inline 在线检测
配置：OPTM 嵌入测量头，集成进涂布 / 镀膜产线
用途：流水线非接触实时监控膜厚，超差报警输出，用于制程闭环控制。
