OTSUKA 大塚电子胶片厚度监视器 FE‑300F

OTSUKA 大塚电子胶片厚度监视器 FE‑300F 

这是一种紧凑、低成本的薄膜厚度计，便于高精度光学干涉薄膜厚度测量。

我们采用了一体化外壳，将必要设备置于主机内，实现稳定的数据采集。

尽管成本低廉，获得绝对反射率还使得光学常数的分析成为可能。

特色：

体积紧凑、成本低且操作简便，用于测量胶片厚度

通过选择光谱仪和光源，可选择胶片厚度范围

条件设置和测量操作简单。 任何人都能轻松测量

配备实时监控和仿真功能

其测量斑点直径为φ1.2毫米，支持

从3nm~35μm薄膜到厚薄膜的广泛测量。

测量项目：

绝对反射率测量

薄膜厚度分析（10层）

光学常数分析（n：折射率，k：衰变计数）

测量目标

功能性薄膜、塑料

透明导电薄膜（ITO、银纳米线）、相位对比薄膜、偏振薄膜、增强现实薄膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、粘合剂、保护薄膜、硬涂层、指纹防护剂等。

半导体：

化合物半导体、硅、氧化膜、氮化物薄膜、抗蚀剂、硅化碳、砷化镓、镓镓、InP、镰铀、镰酸、铀铵、铵铀、铵铀、铵晶、蓝宝石等。

表面处理：

DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。

光学材料：

滤光片、AR涂层等。

FPD

LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机胶片、密封剂）等。

其他的有硬盘

、磁带、建筑材料等。

核心技术规格表

产品详细介绍

FE‑300F 是一体式 All‑in‑one 台式分光干涉膜厚仪，F 代表 Film 胶片专用机型，整机集成光源、分光模块、样品平台，无需外接组件。

4 套解析算法：峰谷 PV 法、FFT 频率解析、非线性最小二乘法、优化拟合算法；支持单层 / 多层膜，可解析光学常数 n/k。

柔性胶片专项优化：针对 PET、PEN、TAC 透明基材，抑制基板背面反射干扰，解决普通光谱膜厚仪测胶片带来的数值漂移误差，适合软质薄膜、涂布样品。

软件功能：向导式操作，光谱仿真模拟、实时厚度监控；支持批量测量、数据导出；可自定义材料库，标准化检测流程。

和 OPTM 系列核心区别：

FE‑300F：φ1.2 mm 大光斑，整片胶片、大面积涂层检测；

OPTM 系列：带显微物镜，最小光斑 φ3 μm，用于微区、图案化晶圆微小点位测量。

实际落地案例用途

案例 1：柔性光学胶片（核心用途）

测试对象：PET/PEN 基材 AR 增透膜、硬质涂层、ITO 导电膜、偏光片、相位差膜、保护膜、防指纹涂层

用途：离线抽检涂布膜厚、评估整面涂布均匀性；解决透明胶片基板背面反射造成的测量偏差。

案例 2：半导体研发实验室

测试对象：光刻胶、氧化硅、氮化硅、SiC/GaAs 化合物半导体薄膜

用途：8 英寸以内晶圆，多层介质膜、光刻胶厚度评价，工艺研发离线检测。

案例 3：显示面板行业

测试对象：LCD/OLED PI 聚酰亚胺膜、光学滤光片、像素功能涂层

用途：纳米‑微米级多层光学膜厚度与光学常数评价。

案例 4：新材料与表面处理

测试对象：DLC 类金刚石涂层、各类高分子涂布膜、光学滤光片

用途：涂层工艺验证，来料品质管控。