MIKASA 米卡萨加压罐压送式显影蚀刻一体机 AD-3000

MIKASA 米卡萨加压罐压送式显影蚀刻一体机 AD-3000

核心参数

产品特点

1. 二合一设备：显影 + 湿法蚀刻，一套设备完成光刻后显影、薄膜湿法刻蚀，实验室小批量研发非常合适。

2. 加压罐式药液供给，摆动双喷嘴，药液喷洒均匀，相比浸泡式药液消耗更少，图形均匀性好。

3. 可编程多步工艺，可自由设置喷淋、冲洗、浸泡时长，配方一键调用，适配多种光刻胶（SU-8 厚胶、常规正胶负胶）。

4. 真空吸盘，兼容硅片、玻璃、化合物半导体、薄膜等圆形 / 方形基板。

5. 安全保护完善，开盖自动停机，防止药液喷溅。

实际应用案例

1. 高校微纳实验室完整光刻工艺：MS-B 匀胶机 → MA 系列曝光机 → AD-3000 显影蚀刻

2. MEMS 器件、微流控芯片、光学光栅、传感器芯片光刻胶显影、金属 / 介质薄膜湿法蚀刻

3. 6/8/12 英寸以内科研试样，小批量微纳结构加工

MIKASA AD-3000 核心参数

• ‌基板适配‌：最大支持12英寸晶圆/220×220mm方形基板，兼容1~12英寸硅片、玻璃、化合物半导体等材质

• ‌旋转系统‌：AC伺服电机驱动，转速范围0~3000rpm，转速控制精度≤0.1%，启停抖动极小，薄晶圆不易碎裂

• ‌液路系统‌：标准配置3路液路（显影液、正面冲洗、背面冲洗），可扩展至最多3组独立显影液系统；采用加压罐压送给药，输出压力稳定，喷淋流量波动小

• ‌喷嘴配置‌：标配双摆动式喷淋喷嘴，喷嘴横向往复扫描角度、摆动速度可独立编程，药液覆盖均匀无死角

• ‌程序控制‌：支持48步工艺编辑，可存储10组完整工艺配方，自带步骤跳过、程序复制功能，LCD触控屏操作直观

• ‌整机规格‌：AC200V三相15A供电，开门状态下外形尺寸720W×910H×520D mm，整机重量60kg，适配常规洁净台台面摆放

• ‌安全联锁‌：标配真空吸附确认传感器、腔室门盖联锁、喷嘴移动超限限位器三重安全保护，防止飞片、撞机风险

• ‌腔体材质‌：接液主体采用SUS不锈钢材质，耐受TMAH碱性显影液、常规有机溶剂，无药液结晶残留污染问题

核心技术特点

1. ‌双工艺模式自由切换‌：同时支持Spray摆动喷淋显影和Puddle水坑显影两种主流工艺，喷淋模式适合厚光刻胶、大图形，水坑模式适配亚微米高精度薄胶显影，研发试样适配性极强

2. ‌全流程自动化闭环‌：一键自动完成显影给药→正反面冲洗→高速旋干整套工序，无需人工转移基板，彻底消除人为操作带来的显影时间偏差、颗粒污染问题，批次间工艺一致性大幅提升

3. ‌加压罐给药稳定性强‌：区别于内置泵给药的机型，压力罐压送药液输出压力无脉冲波动，显影速率重复性误差控制在3%以内，保障大尺寸晶圆整片显影均匀性

4. ‌工艺拓展能力丰富‌：可选配显影液恒温控制系统，将显影液温度波动控制在±0.5℃以内，完全规避光刻显影速率对温度敏感的痛点；支持定制各类异形基板专用载台，适配特殊试样需求

5. ‌黄光实验室友好设计‌：整机为台式紧凑型结构，无需改造实验室空间即可直接放置在Class100级洁净台内运行，接液腔体光滑无死角，废液导流设计避免反流二次污染基板

典型应用场景

1. ‌高校微纳加工公共教学平台‌：搭配同品牌旋涂机、接触式光刻机组成完整的12英寸黄光工艺链路，用于本科生微纳光刻教学实验，设备操作门槛低、故障率远低于同级别国产机型，高频次教学使用场景下仍能长期稳定运行。

2. ‌第三代半导体功率器件研发实验室‌：用于碳化硅、氮化镓晶圆的光刻后显影工序，利用其低抖动伺服旋台特性，避免薄脆化合物半导体晶圆在工艺过程中碎裂，保障2μm以下栅极图形的显影良率。

3. ‌MEMS传感器创业公司研发线‌：适配多规格小批量传感器芯片的快速研发试样，可快速切换不同尺寸基板载台，1分钟内完成不同工艺配方调用，大幅缩短微纳结构显影工序的试样周期。

4. ‌光学微纳光栅制备实验室‌：利用Puddle水坑显影模式，在玻璃基板上实现周期500nm以下微纳光栅图形的均匀显影，图形边缘粗糙度控制在50nm以内，满足高精度光学器件研发的工艺要求。