KURABO 仓纺 ChemicAlyzer 在线药液浓度计标准型 Pro-2
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仪器介绍
KURABO 仓纺 ChemicAlyzer 在线药液浓度计标准型 Pro-2
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一、产品概述
ChemicAlyzer Pro-2（KIS 系列）是日本 KURABO 仓纺经典一体化在线近红外液体成分浓度计，属于 ChemicAlyzer 产品线的标准主力机型，行业代号 KIS 系列，原厂完整型号格式：KIS-2□-R，方框内字符代表适配药液种类。
测量单元与信号处理主机集成一体，体积紧凑，是半导体、显示面板湿法产线最常用的在线监测设备，用来连续监测循环药液的多组分浓度，可直接接入产线管路，替代人工取样滴定。Pro-2 属于成熟长销机型，而 Pro-2 + 是它的升级加强版本。
定位：标准经济型在线款，适合单槽、常规药液监测；如果是多组分复杂混合液、高精度要求，选 Ace-3 高性能款。
二、测量原理
近红外透射分光法。特定波长近红外光穿透管路内流动药液，不同化学组分对红外光吸收量不同，设备根据吸光度，结合内置专属校准曲线，实时计算药液内各组分浓度。 可同时检测混合药液中两种及以上成分，不是普通折射式浓度计（仅测单一溶质）；光学非接触检测，不会污染药液，适配洁净车间。
三、详细核心参数
| 项目 | 技术规格 |
|---|---|
| 产品型号 | ChemicAlyzer Pro-2（KIS 系列），完整型号 KIS-2□-R |
| 设备全称 | 在线式近红外液体成分浓度计 |
| 测量方式 | 近红外透射分光方式 |
| 最小测量周期 | 2 秒 |
| 测量精度 | 典型 ±0.1%（TMAH、H₂O₂等），根据药液体系略有差异 |
| 接液部件 | 石英池版本：PFA、PTFE、石英、Perflu O 型圈蓝宝石池版本（强腐蚀）：PFA、PTFE、蓝宝石、Kalrez O 圈 |
| 管路规格 | 进管 Φ3×Φ2，出管 Φ4×Φ3，标配 1m 软管 |
| 最高耐受压力 | 0.2MPa |
| 信号输出 | DC4-20mA 模拟输出；开路集电极数字输出（就绪、运行、异常、上下限报警） |
| 输入信号 | 晶体管电流驱动输入（测量启动、校正、预热完成等） |
| 整机尺寸 | W201 × D340 × H198 mm |
| 整机重量 | 约 11kg |
| 供电 | AC100~220V，80W，50/60Hz 宽电压 |
| 使用环境 | 半导体洁净车间，环境温度 20~30℃，禁止结露，湿度≤80% RH |
| 安装方式 | 壁挂 / 机架安装 |
四、产品核心优势
一体化紧凑设计，产线改造友好测量光学单元和主机整合在一台设备，相比分体式占用空间更小，非常适合旧产线改造、单药液槽加装在线监测，安装布线简单。
支持混合药液多组分同时检测普通折射浓度计只能测溶液总折光率，无法区分混合药液里面多种化学成分；Pro-2 可同时监控 2 种组分，例如 SPM 硫酸 + 双氧水，SC1 氨水 + 双氧水。
耐强腐蚀接液材质，适配半导体全系列湿法药液PFA/PTFE + 石英 / 蓝宝石接液件，耐受强酸、强碱、有机剥离液，不会被药液腐蚀析出杂质，满足晶圆洁净制程。
实时连续监测，支持产线闭环加药4-20mA 信号接入 PLC，浓度低于设定阈值时，系统自动启动加药泵补加药剂，维持药液浓度稳定，减少晶圆批次良率波动。
维护简单，长期稳定性好光学非接触测量，没有电极消耗件，不需要频繁更换探头；内置自检功能，故障报警输出，便于设备点检。
洁净室友好密闭管路取样，不用反复打开药槽人工取样，降低洁净室污染风险，减少人工工作量。
五、分行业详细工艺用法与落地场景
1、半导体晶圆湿法清洗（核心应用）
适用药液：SC1、SC2、SPM、稀 SC2、IPA工艺用法晶圆清洗槽药液随加工持续消耗，H₂O₂、氨水、硫酸浓度逐步衰减。Pro-2 串联在药液循环管路，24 小时不间断在线监测双组分浓度。
实际落地：设置浓度上下限，浓度偏低自动补液；稳定的药液浓度保证每片晶圆颗粒去除效果一致，消除人工滴定带来的取样误差，减少洁净室内人员操作。
2、晶圆蚀刻工序
适用药液：HF、BHF 缓冲氢氟酸、H₃PO₄磷酸、硝酸醋酸混合蚀刻液工艺用法蚀刻速率直接由药液浓度决定，浓度波动会造成晶圆过刻、欠刻。Pro-2 实时监控蚀刻液组分，稳定控制蚀刻速率，保证晶圆线宽均匀。磷酸蚀刻常用于铝层、氮化硅蚀刻，是面板、功率器件产线常用场景。
3、TMAH 显影工序
适用药液：TMAH 四甲基氢氧化铵碱性显影液工艺用法TMAH 浓度直接影响光刻胶显影速度与图形轮廓，对精度要求极高。Pro-2 在线监测 TMAH 浓度，±0.1% 高精度监测，保证光刻图形一致性，是逻辑芯片、面板产线常用。
4、液晶 / 显示面板制造
适用药液：磷酸系混合蚀刻液、碱液显影液、铜蚀刻液工艺用法液晶基板、OLED 面板蚀刻槽管控，在线监测混合酸比例，稳定面板蚀刻均匀性，防止面板出现色差、线条不均缺陷。
5、CMP 化学机械抛光工序
适用药液：CMP 抛光液，监测 H₂O₂、BTA 组分工艺用法CMP 抛光液氧化剂浓度直接影响抛光去除速率，Pro-2 监测抛光液循环管路，稳定抛光效果，降低晶圆表面缺陷。
局限性：只适合透明 / 半透明药液；浑浊、高固含浆料无法测量。
