HOYA 豪雅光纤式 UV 均匀照射镜头单元 HLL-Q 系列

HOYA 豪雅光纤式 UV 均匀照射镜头单元 HLL-Q 系列 

品牌：HOYA CANDEO OPTRONICS（豪雅光学，日本） 产品定位：光纤导入式高均匀紫外整形镜头单元（本身不发光，属于光学配件），归属于 EXECURE 系列 UV 光源配套光学组件，专门用于需要全域照度高度均匀的紫外固化、掩膜选择性曝光工艺；是 HLL-L 标准区域照射镜头的升级均匀款。 配套前提：必须搭配豪雅 EXECURE4000、UL750 汞灯光源主机 + HOYA 专用光导光纤一起使用。

一、型号细分与基础规格

HLL-Q 系列主流型号：HLL-Q1、HLL-Q2（原厂标准产品线）

核心光学规格

1. 适用紫外波段：365nm 为主（汞灯主峰值），兼容 385/405nm

2. 光学镜片：紫外专用熔融石英镜片，耐高能量 UV 长时间照射，不易黄变、光衰低，紫外透过率高

3. 光场均匀度：照射面内照度均匀度可达 ±3%，属于工业 UV 镜头里高端匀光水平；平顶光场，无中心高亮、边缘衰减的问题

4. 光路特性：准直匀光光学设计，镜头前端可加装掩膜版（光罩 Mask），实现图形化选择性 UV 曝光

5. 结构：全不锈钢镜筒，无塑胶析出，满足半导体、医疗洁净车间要求；带螺纹调节结构，可微调工作距离，调试光斑大小

6. 安装：螺纹锁紧式，机械手末端、狭小设备腔体内部均可直接安装，体积紧凑

二、产品核心特点

1. 平顶均匀光场（HLL-Q 最核心优势，区别 HLL-L）普通 HLL-L 镜头输出光斑是高斯分布：中心亮度高，边缘能量快速下降，只适合单点小范围点胶固化； HLL-Q 通过原厂特殊光学透镜组，把光纤导出的发散紫外光束整形为平顶均匀光斑，整个照射区域内 UV 能量基本一致，不会出现局部能量过高 / 过低，保证整片工件固化效果一致。

2. 支持掩膜 (Mask) 图形曝光可在镜头前端加装掩膜版，将 UV 光投影成自定义图形，实现选择性局部 UV 曝光，这是 HLL-L 系列很难稳定实现的工艺，广泛用于半导体临时保护胶、微结构光刻。

3. 洁净耐 UV 结构，适合精密产线镜筒采用 SUS303 不锈钢，不含易被 UV 分解的塑料件，不会产生有机析出污染工件；石英镜片抗紫外老化，长时间连续照射下光学性能衰减缓慢。

4. 模块化耗材设计，降低维护成本镜头属于消耗件，胶水挥发物污染、镜片老化时，仅单独更换镜头单元，无需整套更换 EXECURE 光源主机 + 光导光纤，大幅降低产线维护成本。

5. 适配自动化集成体积小巧，支持机械手随动安装；可配合光源主机的快门、光强反馈，集成到自动化设备、在线检测固化工位（赛腾自动化设备大量使用同类型光学配件）。

三、实际用途与落地案例分析

案例 1：半导体封测，晶圆临时保护胶掩膜选择性曝光（核心应用）

场景：功率器件、芯片晶圆制程，需要只对晶圆上指定区域的光刻胶 / 临时保护胶做 UV 曝光，其余区域保护，后续显影得到精密图形。痛点：使用 HLL-L 普通镜头，光斑高斯分布，边缘能量不足，掩膜曝光后图形边缘模糊，部分区域曝光不足，造成良率波动；普通大面积面光源无法实现小区域定点掩膜曝光。HLL-Q 解决方案：选用 HLL-Q2，搭配 EXECURE4000 汞灯光源 + 光纤，镜头前端加装掩膜版；平顶均匀光场，掩膜下每一处区域 UV 能量一致，图形边界锐利，曝光一致性稳定。

价值：提升晶圆微结构图形良率，适合实验室 FA、封测厂小批量工艺开发。

案例 2：医疗耗材 微流控芯片整片平面 UV 粘接固化

场景：生物微流控芯片，两片石英 / 塑料基板之间整面涂布 UV 胶，需要整片粘接面同步固化，芯片流道宽度极小，对固化均匀性要求极高。痛点：光斑能量不均会导致：部分区域胶水固化不足，出现漏气、脱粘；部分区域能量过高，基板材料热变形、微流道形变报废。医疗产品对一致性、洁净度要求严苛，不能有塑胶析出污染。选型方案：HLL-Q1，不锈钢洁净镜筒，平顶均匀光斑，保证整个粘接面 UV 能量一致；无析出，满足医疗耗材洁净生产要求。

案例 3：3C 电子传感器组件平面 UV 胶固化（赛腾设备典型场景）

场景：手机、平板光学传感器、摄像头模组的平面封装粘接，元器件精密，周边光敏器件不能被 UV 过量照射，胶层需要整体同步固化。痛点：普通点光源光斑中心能量过高，容易烧坏周边光学元件；能量不均造成胶层收缩不一致，产品出现翘曲。HLL-Q 方案：HLL-Q 均匀光场，整片胶层同步固化；可限定照射区域，搭配遮光工装，避免 UV 照射周边元器件，适配自动化流水线的固化工位。

案例 4：光学元件小型薄膜 UV 硬化涂层固化

场景：小型光学镜片、滤光片表面 UV 硬化镀膜，镀膜需要整面均匀固化，防止膜层厚薄不均、色差、局部脱落。应用逻辑：HLL-Q 输出均匀 UV 光场，工件表面每个位置接收的 UV 剂量一致，保证硬化膜层性能均匀稳定。

案例 5：实验室材料研发，掩膜光刻小样制备

场景：高校、材料实验室二维材料、光敏树脂微结构研究，需要小面积、可控的图形 UV 曝光，做样品开发。优势：小型镜筒，调试方便；搭配掩膜可以快速制作微结构样品，不用昂贵大型光刻机。