美萨科技(苏州)有限公司
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LUV-1000 UV
TSUBOSAKALUV-1000是平行光紫外曝光装置,配备2kW汞灯,输出高平行度365nm紫外光。支持掩膜图形曝光与自动调平,专为MEMS、半导体及光学薄膜的光刻研发设计。
CMS-1
TSUBOSAKACMS-1是五轴电动载物台控制系统,集成X/Y/Z平移及偏航/俯仰旋转。支持示教记忆与二次开发,专为相机模组光学测试设计,实现高精度角度与位置自动化调节。
LC-5IR
TSUBOSAKALC-5IR手持近红外强度仪,专测850/940/1050nm光源。接触式测量,具数据保持与背光功能。适用于车载、手机及安防红外模组产线点检与校准。
SAE-800
TSUBOSAKA SAE-800多机位相机测试仪,集成AE曝光与快门速度高精度测量。支持多工位并行检测,涵盖曝光误差、幕帘速度等指标,适用于手机及数码相机模组产线量产质检。
RETS 系列
大塚电子RETS系列是无损检测液晶盒间隙及光学参数的标杆设备。支持透射/反射模式,覆盖微小元件至G10.5基板,提供离线研发与在线量产方案,精准管控盒厚、配向角及相位差。
LCF 系列
OTSUKALCF系列专用于FPD彩色滤光片检测,集透射/反射光谱、色度、膜厚及浓度测量于一体。具备自动对焦与像素对准功能,最小光斑2μm,支持从研发到产线的全自动高精度无损检测。
QE-5000
大塚电子QE-5000是高灵敏度近红外量子效率系统,无需液氮即可检测1270nm单线态氧,最低测至0.01%产率。支持水相及各类样品,覆盖300-1600nm,适用于光动力疗法及太阳能电池评估。
QE‑2100
大塚电子QE-2100量子效率系统,秒级测绝对量子产率。采用积分半球与低杂散光光谱仪,支持重激发校正及温控。兼容粉体、溶液、薄膜,广泛用于LED、光伏及生物荧光材料评估。
GS‑300
大塚GS-300是专为12寸晶圆设计的加载端口集成式膜厚测量系统。支持全自动传片与图案对齐,5kHz高速采样,60秒完成全域Mapping。可解析多层膜厚,精准管控研磨均匀性,满足量产需求。
SF-3
大塚SF-3光谱干涉厚度计,采用非接触白光干涉技术,支持5层膜厚高速测量。具备5kHz采样率与微米级精度,可穿透窗口实时监测晶圆研磨抛光,易于产线集成。
SM‑100 系列
大塚SM-100系列便携式薄膜测厚仪,手持设计,1秒快速测量。支持单层及多层膜解析,抗干扰强,适用于产线巡检与实验室,精准检测柔性胶片及涂层厚度。
FE‑300F
大塚FE-300F胶片厚度监视器,集光源与分光模块于一体。采用光学干涉法,精准测量3nm-35μm薄膜厚度及光学常数。大光斑设计抗干扰,操作简便,适用于柔性胶片及半导体检测。
OPTM 系列
大塚电子OPTM系列显微光谱薄膜厚度计,采用非接触反射法,最小光斑3μm,秒级测量。支持50层膜解析及光学常数分析,消除基板背反干扰,适用于半导体及光学薄膜研发与产线监控。
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企业地址:苏州市高新区滨河路588号2幢B1005室 联系人:李梦凡 邮编:13162378218
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拉曼光谱仪
其他半导体检测仪
椭偏仪
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